【轉寄好友】 【友善列印】 推到  推到
  【免費加入會員】   【學員須知】 【常見問題】
【課程名稱】 半導體製程實作
原價8000元,優惠價6000元。
【課程代碼】 06O003
【上課時間】 2017/09/09, 09/10, 09/16, 09/17日,星期六、日 ,共2週4天, 09:00~16:00 
【課程主旨】 藉由簡易的NMOS實做,學員可實際操作半導體相關的設備,如爐管、黃光、清洗蝕刻、量測及鍍膜設備等,並於課程中做進一步相關設備及製程原理的解說,使初步接觸半導體的學員能對半導體製程有更進一步的認識。
【課程特色】 1.可實際操作半導體製程相關設備。
2.自己做好的晶圓可攜帶回家。
3.結業證書 符合"清大奈材中心"或"NDL"或"交大奈米中心"申請設備自行操作要件之一。
【修課條件】 半導體最基礎的實作,無科系或工作領域限制。建議為大專以上理工科系畢業或半導體、 微 機電、面板相關工作,具半導體製程概念者為佳。
【課程大綱】 1.第一節課(3小時)
NMOS製程流程解說
標準清洗
晶圓旋乾機旋乾

2. 第二節課(3小時)
高溫熱氧化製程Field oxide(SiO2) 500nm
二氧化矽厚度量測 (nanospec)
橢圓儀厚度量測

3.第三節課(3小時)
黃光製程,第一道光 罩
BOE濕蝕刻
硫酸+雙氧水去光阻

4.第四節課(3小時)
高溫磷擴散
含磷氧化層濕式蝕刻
四點探針量測、二氧化矽蝕刻
高溫熱氧化製程Gate Oxide 50nm

5.第五節課(3小時)
黃光製程,第二道光罩
BOE濕蝕刻
硫酸+雙氧水去光阻

6.第六節課(3小時)
濺鍍鋁金屬膜PVD:Al Deposition(RF-Sputter)
表面輪廓儀量測

7.第七節課(3小時)
黃光製 程,第三道光罩
Al Etching

8.第八節課(3小時)
晶圓切割
雷射切割
成品包裝


八吋高溫氧化爐管


六吋雙面對準機


射頻濺鍍機


雷射微加工機


半導體製程實作成品(四吋晶圓)
自強基金會半導體中心網頁:http://semi.tcfst.org.tw
【課程師資】 自強基金會專業講師
【上課時數】 24 小時
【上課地點】 新竹市光復路二段101號國立清華大學工程三館3樓無塵室
【主辦單位】 自強基金會
【課程費用】 6000元 (超值優惠價格需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
【諮詢專線】 03-5722644 張先生 yhchang@tcfst.org.tw
【學員須知】 報名與繳退費方法常見問題與解決會員紅利積點活動辦法
【注意事項】 1.使用刷卡付費的學員,若課程取消將不會刷卡。
2.若開課前三天尚未收到通知是否 開課,請來電03-5722644,0911668676,找張先生。
3.本實作上課教室為清大四吋晶圓 無塵室。請務必穿著襪子。
4.上課使用的設備為實驗機種,非量產機種。
5.當日 實做課程提早做完將會提早下課,反之則將會延後下課。
6.自強基金會半導體中心網 頁:http://semi.tcfst.org.tw

  1. 若遇不可預測之突發因素,基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。
  2. 無紙化環境,輕鬆達到減碳救地球,即日起16小時以上課程結業證書改以電子方式提供。
  3. 本課程不適用廠商VIP折扣優惠
  4. 課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。
  5. 課程嚴禁旁聽,亦不可攜眷參與。