自強課程
課程名稱
光刻機光學 Optics of Lithography
如期開班
今年,2020年8月18日,台積電董事長劉德音在台中科博館「半導體的世界」展館捐贈儀式結束後,受訪表示「今年的生意好,台積電將徵才8千人,是往年的一倍。」
台積電表示,三奈米廠目前已經在興建當中,預計2022年開始量產,更先進的二奈米預計將落腳新竹寶山園區。
光刻機光學半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝光光源、照明系統、光罩、投影鏡頭系統、晶圓載台對準等子系統。
本課程介紹光學微影製程的各子系統參數,進行原理性的探究,從物理的角度理解光刻機結構、製程上的「為什麼」。希望對想進「台積電」工作的年輕工程師、學生能有所幫助。
台積電表示,三奈米廠目前已經在興建當中,預計2022年開始量產,更先進的二奈米預計將落腳新竹寶山園區。
光刻機光學半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝光光源、照明系統、光罩、投影鏡頭系統、晶圓載台對準等子系統。
本課程介紹光學微影製程的各子系統參數,進行原理性的探究,從物理的角度理解光刻機結構、製程上的「為什麼」。希望對想進「台積電」工作的年輕工程師、學生能有所幫助。
課程代碼:
09A025
上課時間:
2020/12/12(六)、12/19(六),9:00~16:00,共12小時
上課時數:
12 小時
上課地點:
課程費用:
10000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
- VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
- 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9800 元
- 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 200 點
課程大綱:
1. Resolution為什麼與數值孔徑成反比?
2. 光刻術為什麼朝UV, DUV, EUV短波長方向發展?
3. DOF焦深為什麼與數值孔徑的平方成反比?
4. 光刻術為什麼從1:1進化成縮影reduced system?
5. 為什麼光刻機的投影鏡頭都是縮小4倍?
6. 光刻機為什麼要採用掃描scan方式曝光?
7. 光刻機的光源波長為什麼要top-hat平頂均勻化?
8. 光刻機的光源波長為什麼要窄化?
9. 光刻機為什麼要使用特殊Aperture來降低空間同調性?
10. 光刻機為什麼要使用離軸照明?
2. 光刻術為什麼朝UV, DUV, EUV短波長方向發展?
3. DOF焦深為什麼與數值孔徑的平方成反比?
4. 光刻術為什麼從1:1進化成縮影reduced system?
5. 為什麼光刻機的投影鏡頭都是縮小4倍?
6. 光刻機為什麼要採用掃描scan方式曝光?
7. 光刻機的光源波長為什麼要top-hat平頂均勻化?
8. 光刻機的光源波長為什麼要窄化?
9. 光刻機為什麼要使用特殊Aperture來降低空間同調性?
10. 光刻機為什麼要使用離軸照明?
學員須知:
注意事項