自強課程

課程名稱

EUV 投影鏡頭的光學設計熱烈招生中

課程代碼：

10A062

上課時間：

2021/10/22(五)，9:00~16:00，共6小時

上課時數：

6 小時

上課地點：

台北教育中心(台北市中正區博愛路80號3樓)

課程費用：

5000元 (符合超值優惠價格者需送出報名表後，系統發出報名成功回函確認金額。)

超值優惠：

VIP企業會員價：VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
會員優惠價： 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 4900 元
會員紅利折抵：本課程歡迎使用紅利折抵，最高可使用 100 點

課程目標：

本課程將利用光學模擬方式介紹台積電技術的核心—極短紫外光的光刻機光路設計。

課程特色：

半導體微影製程是半導體產業的核心技術，其基本組成為：曝光光源、照
明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。雖然我們不會製造EUV
機台，但是我們工程師若能了解其中的構造，也是很有幫助半導體產業的
發展。

修課條件：

從事相關產業人員。

課程大綱：

1. EUV在半導體產業的重要性
2. 反射式光學系統的必要性
3. EUV反射鏡的反射率
4. 2-mirror的EUV研究工具
5. 4-mirror的EUV鏡頭系統
6. 為什麼現代的EUV lithography要6-mirror?
7. Williamson的6-mirror high NA lithography lens system結構解析

課程師資：

林世穆光學博士

學員須知：

報名與繳退費方法｜常見問題與解決｜會員紅利積點活動辦法

注意事項

清華大學學生優惠方案：清華大學學生可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價，完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附清華大學學生證)。

若遇不可預測之突發因素，基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。

無紙化環境，輕鬆達到減碳救地球，即日起16小時以上課程結業證書或未達16小時課程上課證明皆以電子方式提供。

使用VIP廠商優惠之學員，上課當日報到時須查核該公司識別證(相關證明資料)。

會員紅利折抵限以原價或會員優惠價再折抵，其他方案不適用。

課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。

課程嚴禁旁聽，亦不可攜眷參與。