自強課程

課程名稱
EUV 反射式微影鏡頭

課程代碼:
10A301
上課時間:
110/3/16(二)、3/23(二),08:45~15:45,共兩週12小時。
上課時數:
12 小時
上課地點:
課程費用:
10000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
- VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
- 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9500 元
- 團報價方案:會員2人同行,可享同行價 9000 元(須於課前告知)
- 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 100 點
課程目標:
本課程將利用光學模擬方式介紹台積電技術的核心—極短紫外光的光刻機光路設計。
課程特色:
半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝光光源、照
明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。雖然我們不會製造EUV
機台,但是我們工程師若能了解其中的構造,也是很有幫助半導體產業的
發展。
明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。雖然我們不會製造EUV
機台,但是我們工程師若能了解其中的構造,也是很有幫助半導體產業的
發展。
修課條件:
從事相關產業人員。
課程大綱:
1. 為什麼使用極短紫外光EUV?
2. EUV 的集光系統Condenser
3. EUV的照明系統-Uniform and Partial Coherence
4. 早期EUV的2-mirror projection system-Offner Lens
5. 5x reduction, Berkeley 2-mirror lithography
6. 中期EUV的4-mirror projection system
7. NA<0.25 的EUV projection system
8. NA>0.25 的EUV 6-mirror projection system
參考文獻:
1. EUV lithography, chapter 4, by Wu Banqie and Ajax
Kumar
2. Handbook of optical systems, Vol. 4, chapter 44.
Edited by Gros
2. EUV 的集光系統Condenser
3. EUV的照明系統-Uniform and Partial Coherence
4. 早期EUV的2-mirror projection system-Offner Lens
5. 5x reduction, Berkeley 2-mirror lithography
6. 中期EUV的4-mirror projection system
7. NA<0.25 的EUV projection system
8. NA>0.25 的EUV 6-mirror projection system
參考文獻:
1. EUV lithography, chapter 4, by Wu Banqie and Ajax
Kumar
2. Handbook of optical systems, Vol. 4, chapter 44.
Edited by Gros
課程師資:
林世穆 光學博士
學員須知:
注意事項