自強課程

課程名稱

EUV 反射式微影鏡頭

課程代碼：

10A301

上課時間：

110/3/16(二)、3/23(二)，08:45~15:45，共兩週12小時。

上課時數：

12 小時

上課地點：

清大第四綜合大樓(近清大郵局)

課程費用：

10000元 (符合超值優惠價格者需送出報名表後，系統發出報名成功回函確認金額。)

超值優惠：

VIP企業會員價：VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
會員優惠價： 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9500 元
團報價方案：會員2人同行，可享同行價 9000 元(須於課前告知)
會員紅利折抵：本課程歡迎使用紅利折抵，最高可使用 100 點

課程目標：

本課程將利用光學模擬方式介紹台積電技術的核心—極短紫外光的光刻機光路設計。

課程特色：

半導體微影製程是半導體產業的核心技術，其基本組成為：曝光光源、照
明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。雖然我們不會製造EUV
機台，但是我們工程師若能了解其中的構造，也是很有幫助半導體產業的
發展。

修課條件：

從事相關產業人員。

課程大綱：

1. 為什麼使用極短紫外光EUV？
2. EUV 的集光系統Condenser
3. EUV的照明系統-Uniform and Partial Coherence
4. 早期EUV的2-mirror projection system-Offner Lens
5. 5x reduction, Berkeley 2-mirror lithography
6. 中期EUV的4-mirror projection system
7. NA<0.25 的EUV projection system
8. NA>0.25 的EUV 6-mirror projection system

參考文獻：
1. EUV lithography, chapter 4, by Wu Banqie and Ajax
Kumar
2. Handbook of optical systems, Vol. 4, chapter 44.
Edited by Gros

課程師資：

林世穆光學博士

學員須知：

報名與繳退費方法｜常見問題與解決｜會員紅利積點活動辦法

注意事項

疫外轉彎充電轉型：響應政府紓困政策，觀光產業從業人員可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價，完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附相關證明資料(名片/識別證/公司在職證明..等))。

清華大學學生優惠方案：清華大學學生可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價，完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附清華大學學生證)。

若遇不可預測之突發因素，基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。

無紙化環境，輕鬆達到減碳救地球，即日起16小時以上課程結業證書改以電子方式提供。

使用VIP廠商優惠之學員，上課當日報到時須查核該公司識別證(相關證明資料)。

會員紅利折抵限以原價或會員優惠價再折抵，其他方案不適用。

課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。