自強課程

課程名稱
EUV 反射式微影鏡頭
 課程代碼:
10A301
 上課時間:
110/3/16(二)、3/23(二),08:45~15:45,共兩週12小時。 
 上課時數:
12 小時
 課程費用:
10000元 (符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
 超值優惠:
  • VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
  • 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9500 元
  • 團報價方案:會員2人同行,可享同行價 9000 元(須於課前告知)
  • 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 100 點
 課程目標:
本課程將利用光學模擬方式介紹台積電技術的核心—極短紫外光的光刻機光路設計。
 課程特色:
半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝光光源、照
明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。雖然我們不會製造EUV
機台,但是我們工程師若能了解其中的構造,也是很有幫助半導體產業的
發展。
 修課條件:
從事相關產業人員。
 課程大綱:
1. 為什麼使用極短紫外光EUV?
2. EUV 的集光系統Condenser
3. EUV的照明系統-Uniform and Partial Coherence
4. 早期EUV的2-mirror projection system-Offner Lens
5. 5x reduction, Berkeley 2-mirror lithography
6. 中期EUV的4-mirror projection system
7. NA<0.25 的EUV projection system
8. NA>0.25 的EUV 6-mirror projection system

參考文獻:
1. EUV lithography, chapter 4, by Wu Banqie and Ajax
Kumar
2. Handbook of optical systems, Vol. 4, chapter 44.
Edited by Gros
 課程師資:
林世穆 光學博士
  注意事項
  • 疫外轉彎充電轉型:響應政府紓困政策,觀光產業從業人員可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價,完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附相關證明資料(名片/識別證/公司在職證明..等))。
  • 清華大學學生優惠方案:清華大學學生可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價,完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附清華大學學生證)。
  • 若遇不可預測之突發因素,基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。
  • 無紙化環境,輕鬆達到減碳救地球,即日起16小時以上課程結業證書改以電子方式提供。
  • 使用VIP廠商優惠之學員,上課當日報到時須查核該公司識別證(相關證明資料)。
  • 會員紅利折抵限以原價或會員優惠價再折抵,其他方案不適用。
  • 課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。
  • 課程嚴禁旁聽,亦不可攜眷參與。
  • 課程查詢或相關作業時程,請洽以下聯絡窗口。
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