自強課程

課程名稱
半導體光刻機光學(Optics of Lithography)
 課程代碼:
10A302
 上課時間:
110/3/4(四)、3/11(四),08:45~15:45,共兩週12小時。 
 上課時數:
12 小時
 課程費用:
10000元 (符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
 超值優惠:
  • VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
  • 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9500 元
  • 團報價方案:會員2人同行,可享同行價 9000 元(須於課前告知)
  • 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 100 點
 課程目標:
本課程介紹光學微影製程的各子系統參數,進行原理性的探究,從物理的角度理解光刻機結構、製程上的「為什麼」。希望對想進「台積電」工作的年輕工程師、學生能有所幫助。
 課程特色:
今年,2020年8月18日,台積電董事長劉德音在台中科博館「半導體的世
界」展館捐贈儀式結束後,受訪表示「今年的生意好,台積電將徵才8千
人,是往年的一倍。」台積電表示,三奈米廠目前已經在興建當中,預計
2022年開始量產,更先進的二奈米預計將落腳新竹寶山園區。

光刻機光學半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝
光光源、照明系統、光罩、投影鏡頭系統、晶圓載台對準等子系統。
 修課條件:
從事相關產業人員。
 課程大綱:
1. Resolution為什麼與數值孔徑成反比?
2. 光刻術為什麼朝UV, DUV, EUV短波長方向發展?
3. DOF焦深為什麼與數值孔徑的平方成反比?
4. 光刻術為什麼從1:1進化成縮影reduced system?
5. 為什麼光刻機的投影鏡頭都是縮小4倍?
6. 光刻機為什麼要採用掃描scan方式曝光?
7. 光刻機的光源波長為什麼要top-hat平頂均勻化?
8. 光刻機的光源波長為什麼要窄化?
9. 光刻機為什麼要使用特殊Aperture來降低空間同調性?
10. 光刻機為什麼要使用離軸照明?
11. 曝光時光阻層為什麼會產生駐波?
12. BEB 曝光前烘烤的作用為何?
13. PEB曝光後烘烤的作用為何?
 課程師資:
林世穆 光學博士
  注意事項
  • 疫外轉彎充電轉型:響應政府紓困政策,觀光產業從業人員可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價,完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附相關證明資料(名片/識別證/公司在職證明..等))。
  • 清華大學學生優惠方案:清華大學學生可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價,完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附清華大學學生證)。
  • 若遇不可預測之突發因素,基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。
  • 無紙化環境,輕鬆達到減碳救地球,即日起16小時以上課程結業證書改以電子方式提供。
  • 使用VIP廠商優惠之學員,上課當日報到時須查核該公司識別證(相關證明資料)。
  • 會員紅利折抵限以原價或會員優惠價再折抵,其他方案不適用。
  • 課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。
  • 課程嚴禁旁聽,亦不可攜眷參與。
  • 課程查詢或相關作業時程,請洽以下聯絡窗口。
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