自強課程

課程名稱

先進半導體材料分析原理與趨勢【進階班】熱烈招生中

課程代碼：

13S340

上課時間：

113/6/29，週六 09:00-16:00，共6小時

上課時數：

6 小時

上課地點：

清華大學第四綜合大樓(清華大學東側門入口處左手邊即為自強基金會大門入口/清大郵局左側)

課程費用：

6500元 (符合超值優惠價格者需送出報名表後，系統發出報名成功回函確認金額。)

超值優惠：

VIP企業會員價：VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
會員優惠價： 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 6200 元
團報價方案：會員2人同行，可享同行價 5500 元(須於課前告知)
五一加職金優惠價： 優惠價再減 300 元(★不能再折抵紅利點數，繳費完成才算報名成功喔★)

課程目標：

隨著先進製程的複雜度增加以及半導體電晶體尺寸的持續縮小，半導體元件中各層次的材料微細尺寸和微量元素分布發生變化，對積體電路的電性影響日益顯著。針對先進半導體元件發展趨勢，如何提早佈局先進材料分析技術，藉以掌握先進半導體材料特性對於材料研發來說非常重要。進階班課程將介紹顯微學、光(能)譜學和繞射學，應用在先進半導體材料分析之發展趨勢與挑戰。
本課程目標如下：
1.瞭解先進半導體元件發展趨勢
2.說明國際上先進半導體材料分析發展概況
3.分享新型半導體材料分析儀器與技術
4.掌握先進半導體材料分析發展趨勢、挑戰與未來發展方向

課程大綱：

1.先進半導體材料發展趨勢-總論

2.先進半導體材料顯微技術發展趨勢與挑戰
-X光顯微技術
-掃描探針技術
-電子與離子顯微鏡技術

3.先進半導體材料光(能)譜技術發展趨勢與挑戰
-表面光(能)譜分析技術
-縱深光(能)譜分析技術
-元素組成光(能)譜技術

4.先進半導體材料繞射技術發展趨勢與挑戰
-X光繞射技術
-電子束繞射技術

課程師資：

講師：羅聖全
學歷：國立清華大學工程與系統科學博士
專長：先進電子顯微鏡技術理論與實務、高階材料分析技術理論與實務、材料
導論、材料分析、碳基奈米材料、高分子奈米複合材料與半導體元件材料
現任：工業技術研究院材料與化工研究所副組長/台灣顯微鏡學會理事長

學員須知：

報名與繳退費方法｜常見問題與解決｜會員紅利積點活動辦法

注意事項

清華大學學生優惠方案：清華大學學生可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價，完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附清華大學學生證)。

若遇不可預測之突發因素，基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。

無紙化環境，輕鬆達到減碳救地球，即日起16小時以上課程結業證書或未達16小時課程上課證明皆以電子方式提供。

使用VIP廠商優惠之學員，上課當日報到時須查核該公司識別證(相關證明資料)。

會員紅利折抵限以原價或會員優惠價再折抵，其他方案不適用。

課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。

課程嚴禁旁聽，亦不可攜眷參與。