自強課程
課程名稱
光刻機的成像品質評價-波動光學在光刻機的應用
熱烈招生中
課程代碼:
10A035
上課時間:
2021/8/18(三)、8/25(三),9:00~16:00,共12小時
上課時數:
12 小時
上課地點:
課程費用:
10000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
- VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
- 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9800 元
- 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 300 點
課程目標:
光刻機的成像要求非常高,就是繞射極限,能評價成像品質的只有波面像差的分析工具。本課程參考Zeiss的光學總監 Herbert Gross所主編的Handbook of Optical Systems, Vol. 3, chapter 30為藍本,介紹波動光學在光刻機的應用。希望台灣半導體光刻機的工程師們能更了解微影製程的核心技術。
課程特色:
參考資料: Handbook of Optical Systems, Vol. 3, chapter 30
課程大綱:
1. Wave Aberrations波面像差
2. Strehl Ratio中心亮點強度比
3. Criteria for PSF and Intensity Distributions點擴展函數
的光強度分布
4. Point Resolution / Line Resolution點物體的解像力/線物體
的解像線寬
5. Depth of Focus焦深
6. MTF criteria and Resolution調制轉換函數的判斷式 與 解像
能力
7. Distortion畸變
8. Color Aberrations and DOF色差及焦點偏離
9. Statistical Aberrations統計上的像差意義
10. Polarization Effect偏振光在光刻機的效應
2. Strehl Ratio中心亮點強度比
3. Criteria for PSF and Intensity Distributions點擴展函數
的光強度分布
4. Point Resolution / Line Resolution點物體的解像力/線物體
的解像線寬
5. Depth of Focus焦深
6. MTF criteria and Resolution調制轉換函數的判斷式 與 解像
能力
7. Distortion畸變
8. Color Aberrations and DOF色差及焦點偏離
9. Statistical Aberrations統計上的像差意義
10. Polarization Effect偏振光在光刻機的效應
學員須知:
注意事項