自強課程
課程名稱
半導體微影的照明光學(Illumination for Micro-Lithography)
熱烈招生中
課程代碼:
12A089
上課時間:
2024/01/26(五),9:00~16:00,共6小時
上課時數:
6 小時
上課地點:
課程費用:
5000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
- VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
- 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 4900 元
- 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 100 點
課程大綱:
1. 光刻機的光路path
2. 光刻機曝光exposure
3. 光束均齊度uniformity
4. 光束的對準alignment
5. 遠心度telecentricity
6. 投影機的光學照明特性
7. 雷射光的部分同調性
8. 離軸光照明的好處
2. 光刻機曝光exposure
3. 光束均齊度uniformity
4. 光束的對準alignment
5. 遠心度telecentricity
6. 投影機的光學照明特性
7. 雷射光的部分同調性
8. 離軸光照明的好處
課程師資:
林世穆老師
主辦單位:
財團法人自強工業科學基金會
學員須知:
注意事項