自強課程

課程名稱

半導體曝光投影鏡頭(光刻機)之光學原理熱烈招生中

課程代碼：

12A125

上課時間：

2024/01/17(三)、01/24(三)，9:00~16:00，共12小時

上課時數：

12 小時

上課地點：

台北教育中心(台北市中正區博愛路80號3樓)

課程費用：

10000元 (符合超值優惠價格者需送出報名表後，系統發出報名成功回函確認金額。)

超值優惠：

自強基金會50周年慶優惠價： 9500 元(★繳費完成才算報名成功喔★)

※主辦單位保有最終修改、變更、活動解釋及取消本活動之權利，若有相關異動將會公告於網站，恕不另行通知。

課程目標：

半導體製程是超精密的光學系統，講究的是「線寬」多少奈米? 這是由繞射理論決定，其中重要的因子是：投影鏡頭的工作波長、投影鏡頭在wafer端的數值孔徑 (NA)、及製程相關的k1參數。半導體製程講究的還有「焦深」多少奈米? 其中重要的因子還是：波長(λ)、數值孔徑 (NA)、及製程相關的k2參數。接著，投影的光學系統要接近「繞射極限」的成像品質。本課程以英國帝國理工學院物理系教師Dr. Kidger出版的micro-lithographic lens章節為藍本，介紹半導體投影鏡頭的發展過程，從紫外光UV的1：1 的單心鏡頭，到深紫外DUV的4：1純折射式、折反射式、到極短紫外EUV的六片反射式投影鏡頭。這是近代光學工程師的心智結晶，希望從事先進半導體產業的工程師們能瞭解這些光學原理。

課程特色：

參考文獻：Intermediate Optical Design， Chapter 8, Micro-lithographic Projection Optics

修課條件：

相關科系畢佳，有意從事光學設計相關產業的人員皆可參加。

課程大綱：

1.投影鏡頭的重要參數：CD(線寬)、DOF(焦深)、Field size、Telecentric(遠心)
2.1:1投影鏡頭介紹、單心monocentric像差規格
2.鏡頭為何進化為Reduced lens 4:1
3.Dioptric Projection Lens折射式投影鏡頭
4.Catadioptric projection lens折反射式投影鏡頭
5.Catoptric projection lens純反射式投影鏡頭

課程師資：

林世穆光學博士

經歷：
出身英國倫敦的「帝國理工學院」物理系的應用光學碩士班，是光學理論發展的重要學府。
前台北科技大學光電所副教授，講授近代光學、光學系統設計、鏡頭設計等光學設計相關課程20年。
課餘時間也提供台灣光學產業界的技術諮詢服務。也提供企業光學設計廠訓的課程。在自強基金會講授光學方面的長、短期課程已達20年。

主辦單位:

財團法人自強工業科學基金會

學員須知：

報名與繳退費方法｜常見問題與解決｜會員紅利積點活動辦法

注意事項

清華大學學生優惠方案：清華大學學生可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價，完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附清華大學學生證)。

若遇不可預測之突發因素，基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。

無紙化環境，輕鬆達到減碳救地球，即日起16小時以上課程結業證書或未達16小時課程上課證明皆以電子方式提供。

使用VIP廠商優惠之學員，上課當日報到時須查核該公司識別證(相關證明資料)。

會員紅利折抵限以原價或會員優惠價再折抵，其他方案不適用。

課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。

課程嚴禁旁聽，亦不可攜眷參與。