自強課程

課程名稱
半導體曝光投影鏡頭(光刻機)之光學原理 熱烈招生中
 課程代碼:
12A125
 上課時間:
2024/01/17(三)、01/24(三),9:00~16:00,共12小時 
 上課時數:
12 小時
 課程費用:
10000元 (符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
 超值優惠:
  • 自強基金會50周年慶優惠價: 9500 元(★繳費完成才算報名成功喔★)
  • ※主辦單位保有最終修改、變更、活動解釋及取消本活動之權利,若有相關異動將會公告於網站,恕不另行通知。
     課程目標:
    半導體製程是超精密的光學系統,講究的是「線寬」多少奈米? 這是由繞射理論決定,其中重要的因子是:投影鏡頭的工作波長、投影鏡頭在wafer端的數值孔徑 (NA)、及製程相關的k1參數。半導體製程講究的還有「焦深」多少奈米? 其中重要的因子還是:波長(λ)、數值孔徑 (NA)、及製程相關的k2參數。接著,投影的光學系統要接近「繞射極限」的成像品質。本課程以英國帝國理工學院物理系教師Dr. Kidger出版的micro-lithographic lens章節為藍本,介紹半導體投影鏡頭的發展過程,從紫外光UV的1:1 的單心鏡頭,到深紫外DUV的4:1純折射式、折反射式、到極短紫外EUV的六片反射式投影鏡頭。這是近代光學工程師的心智結晶,希望從事先進半導體產業的工程師們能瞭解這些光學原理。
     課程特色:
    參考文獻:Intermediate Optical Design, Chapter 8, Micro-lithographic Projection Optics
     修課條件:
    相關科系畢佳,有意從事光學設計相關產業的人員皆可參加。
     課程大綱:
    1.投影鏡頭的重要參數:CD(線寬)、DOF(焦深)、Field size、Telecentric(遠心)
    2.1:1投影鏡頭介紹、單心monocentric像差規格
    2.鏡頭為何進化為Reduced lens 4:1
    3.Dioptric Projection Lens折射式投影鏡頭
    4.Catadioptric projection lens折反射式投影鏡頭
    5.Catoptric projection lens純反射式投影鏡頭
     課程師資:
    林世穆 光學博士

    經歷:
    出身英國倫敦的「帝國理工學院」物理系的應用光學碩士班,是光學理論發展的重要學府。
    前台北科技大學光電所 副教授,講授近代光學、光學系統設計、鏡頭設計等光學設計相關課程20年。
    課餘時間也提供台灣光學產業界的技術諮詢服務。也提供企業光學設計廠訓的課程。在自強基金會講授光學方面的長、短期課程已達20年。

      主辦單位:
    財團法人自強工業科學基金會
      注意事項
  • 清華大學學生優惠方案:清華大學學生可享課程最低優惠價─VIP企業會員優惠價,完成報名後須來電告知修改費用(使用本優惠價須於報名同時檢附清華大學學生證)。
  • 若遇不可預測之突發因素,基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。
  • 無紙化環境,輕鬆達到減碳救地球,即日起16小時以上課程結業證書或未達16小時課程上課證明皆以電子方式提供。
  • 使用VIP廠商優惠之學員,上課當日報到時須查核該公司識別證(相關證明資料)。
  • 會員紅利折抵限以原價或會員優惠價再折抵,其他方案不適用。
  • 課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。
  • 課程嚴禁旁聽,亦不可攜眷參與。
  • 優惠方案擇一使用。
  • 課程查詢或相關作業時程,請洽以下聯絡窗口。
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