自強課程

課程名稱
半導體曝光投影鏡頭(光刻機)之光學原理
熱烈招生中
課程代碼:
12A125
上課時間:
2024/01/17(三)、01/24(三),9:00~16:00,共12小時
上課時數:
12 小時
上課地點:
課程費用:
10000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
課程目標:
半導體製程是超精密的光學系統,講究的是「線寬」多少奈米? 這是由繞射理論決定,其中重要的因子是:投影鏡頭的工作波長、投影鏡頭在wafer端的數值孔徑 (NA)、及製程相關的k1參數。半導體製程講究的還有「焦深」多少奈米? 其中重要的因子還是:波長(λ)、數值孔徑 (NA)、及製程相關的k2參數。接著,投影的光學系統要接近「繞射極限」的成像品質。本課程以英國帝國理工學院物理系教師Dr. Kidger出版的micro-lithographic lens章節為藍本,介紹半導體投影鏡頭的發展過程,從紫外光UV的1:1 的單心鏡頭,到深紫外DUV的4:1純折射式、折反射式、到極短紫外EUV的六片反射式投影鏡頭。這是近代光學工程師的心智結晶,希望從事先進半導體產業的工程師們能瞭解這些光學原理。
課程特色:
參考文獻:Intermediate Optical Design, Chapter 8, Micro-lithographic Projection Optics
修課條件:
相關科系畢佳,有意從事光學設計相關產業的人員皆可參加。
課程大綱:
1.投影鏡頭的重要參數:CD(線寬)、DOF(焦深)、Field size、Telecentric(遠心)
2.1:1投影鏡頭介紹、單心monocentric像差規格
2.鏡頭為何進化為Reduced lens 4:1
3.Dioptric Projection Lens折射式投影鏡頭
4.Catadioptric projection lens折反射式投影鏡頭
5.Catoptric projection lens純反射式投影鏡頭
2.1:1投影鏡頭介紹、單心monocentric像差規格
2.鏡頭為何進化為Reduced lens 4:1
3.Dioptric Projection Lens折射式投影鏡頭
4.Catadioptric projection lens折反射式投影鏡頭
5.Catoptric projection lens純反射式投影鏡頭
課程師資:
林世穆 光學博士
經歷:
出身英國倫敦的「帝國理工學院」物理系的應用光學碩士班,是光學理論發展的重要學府。
前台北科技大學光電所 副教授,講授近代光學、光學系統設計、鏡頭設計等光學設計相關課程20年。
課餘時間也提供台灣光學產業界的技術諮詢服務。也提供企業光學設計廠訓的課程。在自強基金會講授光學方面的長、短期課程已達20年。
經歷:
出身英國倫敦的「帝國理工學院」物理系的應用光學碩士班,是光學理論發展的重要學府。
前台北科技大學光電所 副教授,講授近代光學、光學系統設計、鏡頭設計等光學設計相關課程20年。
課餘時間也提供台灣光學產業界的技術諮詢服務。也提供企業光學設計廠訓的課程。在自強基金會講授光學方面的長、短期課程已達20年。
主辦單位:
財團法人自強工業科學基金會
學員須知:
注意事項