自強課程

課程名稱

【竹科管理局補助課程】先進半導體材料分析原理與趨勢熱烈招生中

⭐⭐《企業內訓應援》詳見注意事項 ⭐⭐

課程代碼：

15S352

上課時間：

115/8/15，週六，09:00-16:00，共6小時

上課時數：

6 小時

上課地點：

清華大學第四綜合大樓(清華大學東側門入口處左手邊即為自強基金會大門入口/清大郵局左側)

課程費用： (以下費用已由竹科管理局補助80%)

3500元 (科學園區廠商優惠價格需送出報名表後，系統發出報名成功回函確認金額。)

超值優惠：

科學園區廠商優惠價： 2500 元(★繳費完成才算報名成功喔★)

課程目標：

隨著先進製程的複雜度增加以及半導體電晶體尺寸的持續縮小，半導體元件中各層次的材料微細尺寸和微量元素分布發生變化，對積體電路的電性影響日益顯著。針對先進半導體元件發展趨勢，如何提早佈局先進材料分析技術，藉以掌握先進半導體材料特性對於材料研發來說非常重要。進階班課程將介紹顯微學、光(能)譜學和繞射學，應用在先進半導體材料分析之發展趨勢與挑戰。
本課程目標如下：
1.瞭解先進半導體元件發展趨勢。
2.說明國際上先進半導體材料分析發展概況。
3.分享新型半導體材料分析儀器與技術。
4.掌握先進半導體材料分析發展趨勢、挑戰與未來發展方向。

課程大綱：

1.先進半導體材料發展趨勢-總論 (0.5hr)
2.先進半導體材料顯微技術發展趨勢與挑戰 (2.0hr)
-X光顯微技術
-掃描探針技術
-電子與離子顯微鏡技術
3.先進半導體材料光(能)譜技術發展趨勢與挑戰 (2.0hr)
-表面光(能)譜分析技術
-縱深光(能)譜分析技術
-元素組成光(能)譜技術
4.先進半導體材料繞射技術發展趨勢與挑戰 (1.5hr)
-X光繞射技術
-電子束繞射技術

課程師資：

自強基金會羅老師
專長：半導體儀器與計量技術開發、先進電子顯微鏡技術理論與實務、高階材料分析技術理論與實務、材料導論、材料分析、碳基奈米材料、高分子奈米複合材料與半導體元件材料。

學員須知：

報名與繳退費方法｜常見問題與解決｜會員紅利積點活動辦法

證書及上課證明發放規定：

課程總時數16小時(含)以上，達出席率75%、成績及格將發予電子證書。

課程總時數16小時以下，達出席率75%，則發予電子上課證明。

注意事項

※請前往竹科管理局廠商與單位名錄進行查詢，即可判斷公司是否為園區內廠商。