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自強課程
課程名稱
【補助申請中】先進半導體材料分析原理與趨勢
熱烈招生中
⭐⭐《企業內訓應援》詳見注意事項 ⭐⭐
課程代碼：
15S352
上課時間：
115/8/15，週六，09:00-16:00，共6小時
上課時數：
6 小時
課程費用：
6000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後，系統發出報名成功回函確認金額。)
課程目標：
隨著先進製程的複雜度增加以及半導體電晶體尺寸的持續縮小，半導體元件中各層次的材料微細尺寸和微量元素分布發生變化，對積體電路的電性影響日益顯著。針對先進半導體元件發展趨勢，如何提早佈局先進材料分析技術，藉以掌握先進半導體材料特性對於材料研發來說非常重要。進階班課程將介紹顯微學、光(能)譜學和繞射學，應用在先進半導體材料分析之發展趨勢與挑戰。
本課程目標如下：
1.瞭解先進半導體元件發展趨勢。
2.說明國際上先進半導體材料分析發展概況。
3.分享新型半導體材料分析儀器與技術。
4.掌握先進半導體材料分析發展趨勢、挑戰與未來發展方向。
本課程目標如下：
1.瞭解先進半導體元件發展趨勢。
2.說明國際上先進半導體材料分析發展概況。
3.分享新型半導體材料分析儀器與技術。
4.掌握先進半導體材料分析發展趨勢、挑戰與未來發展方向。
課程大綱：
1.先進半導體材料發展趨勢-總論 (0.5hr)
2.先進半導體材料顯微技術發展趨勢與挑戰 (2.0hr)
-X光顯微技術
-掃描探針技術
-電子與離子顯微鏡技術
3.先進半導體材料光(能)譜技術發展趨勢與挑戰 (2.0hr)
-表面光(能)譜分析技術
-縱深光(能)譜分析技術
-元素組成光(能)譜技術
4.先進半導體材料繞射技術發展趨勢與挑戰 (1.5hr)
-X光繞射技術
-電子束繞射技術
2.先進半導體材料顯微技術發展趨勢與挑戰 (2.0hr)
-X光顯微技術
-掃描探針技術
-電子與離子顯微鏡技術
3.先進半導體材料光(能)譜技術發展趨勢與挑戰 (2.0hr)
-表面光(能)譜分析技術
-縱深光(能)譜分析技術
-元素組成光(能)譜技術
4.先進半導體材料繞射技術發展趨勢與挑戰 (1.5hr)
-X光繞射技術
-電子束繞射技術
課程師資：
自強基金會 羅老師
專長：半導體儀器與計量技術開發、先進電子顯微鏡技術理論與實務、高階材料分析技術理論與實務、材料導論、材料分析、碳基奈米材料、高分子奈米複合材料與半導體元件材料。
專長：半導體儀器與計量技術開發、先進電子顯微鏡技術理論與實務、高階材料分析技術理論與實務、材料導論、材料分析、碳基奈米材料、高分子奈米複合材料與半導體元件材料。
學員須知：
注意事項
📌課程費用包含：講義及稅。《不提供午餐》
📌計畫補助課程不適用於其他基金會優惠方案及不可使用紅利點數折抵費用。
📌計畫補助課程《確定開課》/《線上課程講義寄出》後，若因故無法上課，則不予退費。
🔥🔥《企業內訓應援》
✨針對園區廠商提供企業內訓課程規劃並享有優惠方案，若有需求可洽03-5623116分機3610鄒小姐。
我們將根據您的回饋來設計具體可行的課程方案，是您達成培訓目標最強有力的後盾！😊
若遇不可預測之突發因素，基金會保有相關課程調整、取消及講師之變動權。
無紙化環境，輕鬆達到減碳救地球，即日起16小時以上課程結業證書或未達16小時課程上課證明皆以電子方式提供。
本課程不適用廠商VIP折扣優惠
課前請詳閱簡章之課程內容或利用課程諮詢電話。
課程嚴禁旁聽，亦不可攜眷參與。
優惠方案擇一使用。
📌計畫補助課程不適用於其他基金會優惠方案及不可使用紅利點數折抵費用。
📌計畫補助課程《確定開課》/《線上課程講義寄出》後，若因故無法上課，則不予退費。
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