自強課程
課程名稱
半導體Lithographic Lens曝光機鏡頭
熱烈招生中
可小量包班上課
課程代碼:
13A004
上課時間:
2024/11/28(四),9:00~16:00,共6小時
上課時數:
6 小時
上課地點:
課程費用:
5000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
- VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
- 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 4900 元
- 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 100 點
課程大綱:
A. 如何產生產生無球差、無彗差的Aplanaticv齊明光學系統
B. Dyson Lithographic Lens
C. Offner Lithographic Lens
D. DUV折射式Lithographic Lens
E. DUV折反射式Lithographic Lens
F. EUV反射式Lithographic Lens
B. Dyson Lithographic Lens
C. Offner Lithographic Lens
D. DUV折射式Lithographic Lens
E. DUV折反射式Lithographic Lens
F. EUV反射式Lithographic Lens
課程師資:
自強基金會 林世穆老師
主辦單位:
財團法人自強工業科學基金會
學員須知:
注意事項