自強課程
課程名稱
光刻機之投影鏡頭光學設計
如期開班
課程代碼:
09A082
上課時間:
2020/11/24(二)、12/01(二),9:00~16:00,共12小時
上課時數:
12 小時
上課地點:
課程費用:
10000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
- VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
- 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9800 元
- 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 300 點
課程目標:
「台積電」啟動史上最大規模徵才
台積電今年接單非常好,需才孔急。台積電證實,徵才8千名確是有史以來最大規模。台積電表示,三奈米廠目前已經在興建當中,預計2022年開始量產,更先進的二奈米預計將落腳新竹寶山園區。
半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝光光源、照明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。本課程採用英國「帝國理工學院」資深講師Kidger : Intermediate Lens Design為藍本,介紹光學微影製程中最重要的投影物鏡子系統。希望對想進「台積電」工作的年輕工程師、學生能有所幫助。
台積電今年接單非常好,需才孔急。台積電證實,徵才8千名確是有史以來最大規模。台積電表示,三奈米廠目前已經在興建當中,預計2022年開始量產,更先進的二奈米預計將落腳新竹寶山園區。
半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝光光源、照明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。本課程採用英國「帝國理工學院」資深講師Kidger : Intermediate Lens Design為藍本,介紹光學微影製程中最重要的投影物鏡子系統。希望對想進「台積電」工作的年輕工程師、學生能有所幫助。
課程特色:
參考文獻:
1. Kidger : Intermediate Lens Design
2. 李林、黃ㄧ帆、王涌天:現代光學設計方法,第二版
3. Gross 主編:Handbook of Optical Systems, Volume 4
1. Kidger : Intermediate Lens Design
2. 李林、黃ㄧ帆、王涌天:現代光學設計方法,第二版
3. Gross 主編:Handbook of Optical Systems, Volume 4
課程大綱:
1. 光刻機技術發展歷程
2. 早期1:1光刻機物鏡態樣
3. 為什麼使用Reduction Projection?
4. 縮小4倍投影鏡頭的構成
5. 全「球面」Dioptric折射光刻機物鏡性能指標
6. 使用「非球面」光刻機物鏡性能解析
7. Catadioptric折反射式光刻機物鏡性能解析
2. 早期1:1光刻機物鏡態樣
3. 為什麼使用Reduction Projection?
4. 縮小4倍投影鏡頭的構成
5. 全「球面」Dioptric折射光刻機物鏡性能指標
6. 使用「非球面」光刻機物鏡性能解析
7. Catadioptric折反射式光刻機物鏡性能解析
課程師資:
授課講師:林世穆 光學博士 台北科技大學 光電系副教授
瑞光科技顧問有限公司 顧問
瑞光科技顧問有限公司 顧問
學員須知:
注意事項