自強課程
課程名稱
Lithographic Lens半導體微影光學
熱烈招生中
課程代碼:
13A311
上課時間:
113/9/12(四)、9/19(四),09:00~16:00,共兩天12小時。
上課時數:
12 小時
課程費用:
10000元
(符合超值優惠價格者需送出報名表後,系統發出報名成功回函確認金額。)
超值優惠:
- VIP企業會員價:VIP企業會員可享優惠價格 (按我)
- 會員優惠價: 會員於開課前七天完成報名繳費者可享會員優惠價 9800 元
- 會員紅利折抵:本課程歡迎使用紅利折抵,最高可使用 100 點
課程目標:
自強基金會特別針對光電研究人員及業界的光電從業人員開設系列課程。讓研發設計人員可以增進在光電系統開發中所需的的光學設計基礎及知識。
修課條件:
相關科系畢佳,有意從事光學設計相關產業的人員皆可參加。
課程大綱:
1. Resolution為什麼與數值孔徑成反比?
2.Lithography optics為什麼朝UV, DUV, EUV短波長方向發展?
3. DOF焦深為什麼與數值孔徑的平方成反比?
4.Lithography optics為什麼從1:1進化成縮影reduced system?
5.為什麼Lithography optics的投影鏡頭都是縮小4倍?
6.Lithography optics為什麼要採用掃描scan方式曝光?
7.Lithography optics的光源波長為什麼要top-hat平頂均勻化?
8.Lithography optics的光源波長為什麼要窄化?
9.Lithography optics為什麼要使用特殊Aperture來降低空間同調性?
10.Lithography optics為什麼要使用離軸照明?
11.曝光時光阻層為什麼會產生駐波?
2.Lithography optics為什麼朝UV, DUV, EUV短波長方向發展?
3. DOF焦深為什麼與數值孔徑的平方成反比?
4.Lithography optics為什麼從1:1進化成縮影reduced system?
5.為什麼Lithography optics的投影鏡頭都是縮小4倍?
6.Lithography optics為什麼要採用掃描scan方式曝光?
7.Lithography optics的光源波長為什麼要top-hat平頂均勻化?
8.Lithography optics的光源波長為什麼要窄化?
9.Lithography optics為什麼要使用特殊Aperture來降低空間同調性?
10.Lithography optics為什麼要使用離軸照明?
11.曝光時光阻層為什麼會產生駐波?
課程師資:
林世穆 光學博士
經歷:出身英國倫敦的「帝國理工學院」物理系的應用光學碩士班,是光學理論發展的重要學府。並為前台北科技大學光電所 副教授,講授近代光學、光學系統設計、鏡頭設計等光學設計相關課程20年。課餘時間也提供台灣光學產業界的技術諮詢服務。也提供企業光學設計廠訓的課程。在自強基金會講授光學方面的長、短期課程已達20年。
經歷:出身英國倫敦的「帝國理工學院」物理系的應用光學碩士班,是光學理論發展的重要學府。並為前台北科技大學光電所 副教授,講授近代光學、光學系統設計、鏡頭設計等光學設計相關課程20年。課餘時間也提供台灣光學產業界的技術諮詢服務。也提供企業光學設計廠訓的課程。在自強基金會講授光學方面的長、短期課程已達20年。
學員須知:
注意事項